VLSIパタン設計のための専用プロセッサに関する研究 vuieruesuai patan sekkei no tameno sen'yo purosessa ni kansuru kenkyu

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Author

    • 鈴木, 敬 スズキ, ケイ

Bibliographic Information

Title

VLSIパタン設計のための専用プロセッサに関する研究

Other Title

vuieruesuai patan sekkei no tameno sen'yo purosessa ni kansuru kenkyu

Author

鈴木, 敬

Author(Another name)

スズキ, ケイ

University

早稲田大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

甲第776号

Degree year

1989-03-15

Note and Description

博士論文

制度:新 ; 文部省報告番号:甲776号 ; 学位の種類:工学博士 ; 授与年月日:1989-03-15 ; 早大学位記番号:新1488 ; 理工学図書館請求番号:1269

Table of Contents

  1. 目次 (4コマ目)
1access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000056302
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000056441
  • DOI(NDL)
  • Text Lang
    • jpn
  • NDLBibID
    • 000000220616
  • Source
    • Institutional Repository
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections
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