窒素イオン打込みSiおよびGaPの損傷とその回復過程に関する研究

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Author

    • 松森, 徳衛 マツモリ, トクエ

Bibliographic Information

Title

窒素イオン打込みSiおよびGaPの損傷とその回復過程に関する研究

Author

松森, 徳衛

Author(Another name)

マツモリ, トクエ

University

東海大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

乙第96号

Degree year

1989-03-25

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 (5コマ目)
0access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000056878
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000057022
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000221192
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections

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