イオン注入によるSi中の不純物分布制御とその応用に関する研究

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著者

    • 三宅, 雅保 ミヤケ, マサヤス

書誌事項

タイトル

イオン注入によるSi中の不純物分布制御とその応用に関する研究

著者名

三宅, 雅保

著者別名

ミヤケ, マサヤス

学位授与大学

京都大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第6903号

学位授与年月日

1989-05-23

注記・抄録

博士論文

新制・論文博士

乙第6903号

論工博第2253号

1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000056965
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000057110
  • DOI(JaLC)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000221279
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
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