Extended X-ray absorption fine structure studies of amorphous and crystalline Si-Ge alloys with synchrotron radiation 放射光を用いたEXAFS法によるSi-Ge合金の研究

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著者

    • 梶山, 博司 カジヤマ, ヒロシ

書誌事項

タイトル

Extended X-ray absorption fine structure studies of amorphous and crystalline Si-Ge alloys with synchrotron radiation

タイトル別名

放射光を用いたEXAFS法によるSi-Ge合金の研究

著者名

梶山, 博司

著者別名

カジヤマ, ヒロシ

学位授与大学

広島大学

取得学位

理学博士

学位授与番号

乙第1773号

学位授与年月日

1988-11-28

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000057709
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000057862
  • NDL書誌ID
    • 000000222023
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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