Study of electron-beam exposure (EBE) and epitaxy of GaAs films on CaF[2]/Si structures EBEエピタキシーによるCaF[2]/Si構造上のGaAs膜の形成に関する研究

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Author

    • 李, 煕哲 イ, ヒチェル

Bibliographic Information

Title

Study of electron-beam exposure (EBE) and epitaxy of GaAs films on CaF[2]/Si structures

Other Title

EBEエピタキシーによるCaF[2]/Si構造上のGaAs膜の形成に関する研究

Author

李, 煕哲

Author(Another name)

イ, ヒチェル

University

東京工業大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

甲第2094号

Degree year

1989-03-26

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 (10コマ目)
1access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000060214
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000060371
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000224528
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections

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