イオン注入技術のサブミクロン超LSIへの応用に関する研究

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著者

    • 布施, 玄秀 フセ, ゲンシュウ

書誌事項

タイトル

イオン注入技術のサブミクロン超LSIへの応用に関する研究

著者名

布施, 玄秀

著者別名

フセ, ゲンシュウ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第4799号

学位授与年月日

1989-07-27

注記・抄録

博士論文

08799

工学博士

1989-07-27

大阪大学

14401乙第04799号

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000060933
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000061094
  • NDL書誌ID
    • 000000225247
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
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