Formation and growth mechanism of fine particles prepared by chemical vapor deposition : preparation of TiO[2] by pyrolysis/hydrosylis of Ti(iso-OC[3]H[7])[4] CVD「化学気相析出法」によって作製した微粒子の生成と成長のメカニズム : Ti(iso-OC[3]H[7])[4]の熱分解および加水分解反応によるTiO[2]の作製

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著者

    • Kirkbir, Fikret クックビル, フィクレット

書誌事項

タイトル

Formation and growth mechanism of fine particles prepared by chemical vapor deposition : preparation of TiO[2] by pyrolysis/hydrosylis of Ti(iso-OC[3]H[7])[4]

タイトル別名

CVD「化学気相析出法」によって作製した微粒子の生成と成長のメカニズム : Ti(iso-OC[3]H[7])[4]の熱分解および加水分解反応によるTiO[2]の作製

著者名

Kirkbir, Fikret

著者別名

クックビル, フィクレット

学位授与大学

東京大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第7922号

学位授与年月日

1988-09-30

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000061365
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000061528
  • NDL書誌ID
    • 000000225679
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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