ジクロルシランをソースガスとするシリコンの減圧エピタキシャル成長に関する研究

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著者

    • 石谷, 明彦 イシタニ, アキヒコ

書誌事項

タイトル

ジクロルシランをソースガスとするシリコンの減圧エピタキシャル成長に関する研究

著者名

石谷, 明彦

著者別名

イシタニ, アキヒコ

学位授与大学

東京大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第9061号

学位授与年月日

1988-12-15

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000061960
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000062125
  • NDL書誌ID
    • 000000226274
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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