ジクロルシランをソースガスとするシリコンの減圧エピタキシャル成長に関する研究

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Author

    • 石谷, 明彦 イシタニ, アキヒコ

Bibliographic Information

Title

ジクロルシランをソースガスとするシリコンの減圧エピタキシャル成長に関する研究

Author

石谷, 明彦

Author(Another name)

イシタニ, アキヒコ

University

東京大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

乙第9061号

Degree year

1988-12-15

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 (4コマ目)
0access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000061960
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000062125
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000226274
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections

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