プラズマプロセスによる化合物半導体のシリコン上エピタキシアル成長

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Author

    • 高, 青竹 コウ, セイチク

Bibliographic Information

Title

プラズマプロセスによる化合物半導体のシリコン上エピタキシアル成長

Author

高, 青竹

Author(Another name)

コウ, セイチク

University

東北大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

甲第4112号

Degree year

1989-12-13

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 (5コマ目)
0access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000062917
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000063085
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000227231
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections

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