Growth processes of molecular beam epitaxy and atomic layer epitaxy of Ⅱ-Ⅵ compounds Ⅱ-Ⅵ族半導体化合物の分子線及び原子層エピタキシャル成長過程

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著者

    • 朱, 自強 シュ, ジキョウ

書誌事項

タイトル

Growth processes of molecular beam epitaxy and atomic layer epitaxy of Ⅱ-Ⅵ compounds

タイトル別名

Ⅱ-Ⅵ族半導体化合物の分子線及び原子層エピタキシャル成長過程

著者名

朱, 自強

著者別名

シュ, ジキョウ

学位授与大学

静岡大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第50号

学位授与年月日

1990-03-23

注記・抄録

博士論文

doctoral

電子科学研究科

甲第50号

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000064066
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000064236
  • DOI(JaLC)
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000000228380
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
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