光CVD法によるアモルファスシリコン系薄膜の堆積とその電気的、光学的性質の研究

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著者

    • 鈴木, 和彦 スズキ, カズヒコ

書誌事項

タイトル

光CVD法によるアモルファスシリコン系薄膜の堆積とその電気的、光学的性質の研究

著者名

鈴木, 和彦

著者別名

スズキ, カズヒコ

学位授与大学

北海道大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第3740号

学位授与年月日

1990-03-24

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000064305
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000064475
  • NDL書誌ID
    • 000000228619
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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