高周波プラズマCVD法による炭素膜の作製に関する研究

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著者

    • 小林, 健二 コバヤシ, ケンジ

書誌事項

タイトル

高周波プラズマCVD法による炭素膜の作製に関する研究

著者名

小林, 健二

著者別名

コバヤシ, ケンジ

学位授与大学

東京電機大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第11号

学位授与年月日

1990-03-19

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000065724
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000065898
  • NDL書誌ID
    • 000000230038
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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