CVD法によるSi-Ge系薄膜の形成とその応用に関する研究

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Author

    • 程, 敏林 テイ, ビンリン

Bibliographic Information

Title

CVD法によるSi-Ge系薄膜の形成とその応用に関する研究

Author

程, 敏林

Author(Another name)

テイ, ビンリン

University

東北大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

甲第4209号

Degree year

1990-03-28

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 (4コマ目)
0access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000065820
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000065994
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000230134
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections

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