プラズマプロセスによる(In,Ga)As系半導体の成長と評価

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Author

    • 方, 隼飛 ホウ, シュンヒ

Bibliographic Information

Title

プラズマプロセスによる(In,Ga)As系半導体の成長と評価

Author

方, 隼飛

Author(Another name)

ホウ, シュンヒ

University

東北大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

甲第4220号

Degree year

1990-03-28

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 (5コマ目)
0access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000065831
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000066005
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000230145
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections

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