ラット二次口蓋癒合前後の口蓋突起プロリル水酸化酵素活性変動について

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著者

    • 依田, 壽幸 ヨダ, トシユキ

書誌事項

タイトル

ラット二次口蓋癒合前後の口蓋突起プロリル水酸化酵素活性変動について

著者名

依田, 壽幸

著者別名

ヨダ, トシユキ

学位授与大学

愛知学院大学

取得学位

歯学博士

学位授与番号

甲第174号

学位授与年月日

1990-03-31

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000066277
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000066451
  • NDL書誌ID
    • 000000230591
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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