Si基板上GaAsエピタキシャル成長法とその応用に関する研究 esuai kibanjo jieieiesu epitakisharu seichoho to sono oyo ni kansuru kenkyu

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Author

    • 渡辺, 義夫 ワタナベ, ヨシオ

Bibliographic Information

Title

Si基板上GaAsエピタキシャル成長法とその応用に関する研究

Other Title

esuai kibanjo jieieiesu epitakisharu seichoho to sono oyo ni kansuru kenkyu

Author

渡辺, 義夫

Author(Another name)

ワタナベ, ヨシオ

University

早稲田大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

乙第783号

Degree year

1990-03-08

Note and Description

博士論文

制度:新 ; 文部省報告番号:乙783号 ; 学位の種類:工学博士 ; 授与年月日:1990-03-08 ; 早大学位記番号:新1628 ; 理工学図書館請求番号:1394

Table of Contents

  1. 目次 (4コマ目)
1access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000066764
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000066938
  • DOI(NDL)
  • Text Lang
    • jpn
  • NDLBibID
    • 000000231078
  • Source
    • Institutional Repository
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections
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