Chemical structures and electronic properties of silicon nitride films シリコン窒化膜の化学構造と電子物性に関する研究
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Author
Bibliographic Information
- Title
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Chemical structures and electronic properties of silicon nitride films
- Other Title
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シリコン窒化膜の化学構造と電子物性に関する研究
- Author
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藤田, 静雄
- Author(Another name)
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フジタ, シズオ
- University
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京都大学
- Types of degree
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工学博士
- Grant ID
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乙第7243号
- Degree year
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1990-05-23
Note and Description
博士論文
本文データは国立国会図書館の学位論文(博士)のデジタル化事業により作成された画像ファイルを基にpdf変換したものである
Table of Contents
- 目次 (8コマ目)
