Study on structural properties of silicon-based insulator films prepared by plasma processings プラズマ・プロセスによるシリコン系絶縁薄膜の構造に関する研究

この論文をさがす

著者

    • 平尾, 孝 ヒラオ, タカシ

書誌事項

タイトル

Study on structural properties of silicon-based insulator films prepared by plasma processings

タイトル別名

プラズマ・プロセスによるシリコン系絶縁薄膜の構造に関する研究

著者名

平尾, 孝

著者別名

ヒラオ, タカシ

学位授与大学

金沢大学

取得学位

学術博士

学位授与番号

乙第1069号

学位授与年月日

1989-09-30

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000068311
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000068494
  • NDL書誌ID
    • 000000232625
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
ページトップへ