多孔質シリコン層の微細構造と格子歪の研究

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著者

    • 杉山, 弘 スギヤマ, ヒロシ

書誌事項

タイトル

多孔質シリコン層の微細構造と格子歪の研究

著者名

杉山, 弘

著者別名

スギヤマ, ヒロシ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第2137号

学位授与年月日

1990-03-26

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000069494
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000069680
  • NDL書誌ID
    • 000000233808
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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