Synthetic studies on thermally stable photosensitive condensation polymers for photoresist applications フォトレジストのための熱的に安定な感光性縮合系高分子の合成に関する研究

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著者

    • Padmanaban, Munirathina パドマナバン, ムニラチュナ

書誌事項

タイトル

Synthetic studies on thermally stable photosensitive condensation polymers for photoresist applications

タイトル別名

フォトレジストのための熱的に安定な感光性縮合系高分子の合成に関する研究

著者名

Padmanaban, Munirathina

著者別名

パドマナバン, ムニラチュナ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第2140号

学位授与年月日

1990-03-26

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000069497
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000069683
  • NDL書誌ID
    • 000000233811
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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