マイクロ波プラズマCVD法によるシリコン系アモルファス膜の形成に関する研究

この論文をさがす

著者

    • 渡辺, 猛志 ワタナベ, タケシ

書誌事項

タイトル

マイクロ波プラズマCVD法によるシリコン系アモルファス膜の形成に関する研究

著者名

渡辺, 猛志

著者別名

ワタナベ, タケシ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第1962号

学位授与年月日

1989-07-31

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000069609
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000069795
  • NDL書誌ID
    • 000000233923
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
ページトップへ