高速イオンビームによるSi(111)上の金属の吸着脱離過程の研究

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著者

    • 築野, 孝 ツノ, タカシ

書誌事項

タイトル

高速イオンビームによるSi(111)上の金属の吸着脱離過程の研究

著者名

築野, 孝

著者別名

ツノ, タカシ

学位授与大学

東京大学

取得学位

理学博士

学位授与番号

甲第8424号

学位授与年月日

1990-03-29

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000070935
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000071124
  • NDL書誌ID
    • 000000235249
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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