A study of homoepitaxial growth on the clean and metal covered surfaces of germanium and silicon Ge,Siの清浄表面及び金属吸着表面上のホモエピタクシャル成長の研究
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Bibliographic Information
- Title
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A study of homoepitaxial growth on the clean and metal covered surfaces of germanium and silicon
- Other Title
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Ge,Siの清浄表面及び金属吸着表面上のホモエピタクシャル成長の研究
- Author
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福谷, 克之
- Author(Another name)
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フクタニ, カツユキ
- University
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東京大学
- Types of degree
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理学博士
- Grant ID
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甲第8431号
- Degree year
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1990-03-29
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 目次 (4コマ目)