イオン注入窒化法を用いた高飽和磁化窒化鉄薄膜の作製とその磁性に関する研究

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著者

    • 中島, 健介 ナカジマ, ケンスケ

書誌事項

タイトル

イオン注入窒化法を用いた高飽和磁化窒化鉄薄膜の作製とその磁性に関する研究

著者名

中島, 健介

著者別名

ナカジマ, ケンスケ

学位授与大学

長岡技術科学大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第11号

学位授与年月日

1990-09-19

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000071362
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000071551
  • NDL書誌ID
    • 000000235676
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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