イオン注入によりSiO[2]/Si構造に生じた格子欠陥の電子スピン共鳴法による研究

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著者

    • 和泉, 富雄 イズミ, トミオ

書誌事項

タイトル

イオン注入によりSiO[2]/Si構造に生じた格子欠陥の電子スピン共鳴法による研究

著者名

和泉, 富雄

著者別名

イズミ, トミオ

学位授与大学

東海大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第128号

学位授与年月日

1990-09-19

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000071430
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000071619
  • NDL書誌ID
    • 000000235744
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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