MOS電界効果トランジスタ用シリコン酸化膜の欠陥に関する研究

Access this Article

Search this Article

Author

    • 逸見, 学 イツミ, マナブ

Bibliographic Information

Title

MOS電界効果トランジスタ用シリコン酸化膜の欠陥に関する研究

Author

逸見, 学

Author(Another name)

イツミ, マナブ

University

東京大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

乙第9296号

Degree year

1989-05-18

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 (3コマ目)
0access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000071582
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000071773
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000235896
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections

Export

Page Top