微細加工用電界電離型ヘリウムイオン源と集束技術に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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微細加工用電界電離型ヘリウムイオン源と集束技術に関する研究
- 著者名
-
堀内, 敬
- 著者別名
-
ホリウチ, ケイ
- 学位授与大学
-
大阪大学
- 取得学位
-
工学博士
- 学位授与番号
-
乙第5220号
- 学位授与年月日
-
1990-12-19
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / (0004.jp2)
- 第一章 序論 / p1 (0005.jp2)
- 1-1 微細加工と集束イオンビーム技術 / p1 (0005.jp2)
- 1-2 電界電離型イオン源の開発状況と本研究の位置づけ / p2 (0006.jp2)
- 1-3 本論文の構成 / p5 (0007.jp2)
- 第二章 電界電離 / p7 (0008.jp2)
- 2―1 電界電離と電界イオン顕微鏡 / p7 (0008.jp2)
- 2-2 トンネル確率 / p10 (0010.jp2)
- 2-3 イオン電流 / p12 (0011.jp2)
- 第三章 電界電離型ヘリウムイオン源 / p24 (0017.jp2)
- 3-1 技術的課題 / p24 (0017.jp2)
- 3-2 イオン源構造 / p24 (0017.jp2)
- 3-3 エミッター作製方法 / p28 (0019.jp2)
- 3-4 真空系と導入ガス / p30 (0020.jp2)
- 3-5 まとめ / p31 (0020.jp2)
- 第四章 イオン源の動作特性 / p34 (0022.jp2)
- 4-1 イオン放出特性 / p34 (0022.jp2)
- 4-2 動作安定性 / p41 (0025.jp2)
- 4-3 検討 / p43 (0026.jp2)
- 4-4 まとめ / p50 (0030.jp2)
- 第五章 イオン放出特性の解析 / p51 (0030.jp2)
- 5-1 W(111)面におけるイオン電流の計算 / p51 (0030.jp2)
- 5-2 実験結果との比較 / p60 (0035.jp2)
- 5-3 検討 / p62 (0036.jp2)
- 5-4 まとめ / p67 (0038.jp2)
- 第六章 集束技術 / p69 (0039.jp2)
- 6-1 集束装置の構成 / p69 (0039.jp2)
- 6-2 軸合わせ機構 / p70 (0040.jp2)
- 6-3 集束実験 / p74 (0042.jp2)
- 6-4 検討 / p79 (0044.jp2)
- 6-5 まとめ / p80 (0045.jp2)
- 第七章 総括 / p81 (0045.jp2)
- 〔参考文献〕 / p84 (0047.jp2)
- 〔研究業績〕 / p87 (0048.jp2)
- 〔謝辞〕 / p90 (0050.jp2)