微細加工用電界電離型ヘリウムイオン源と集束技術に関する研究

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著者

    • 堀内, 敬 ホリウチ, ケイ

書誌事項

タイトル

微細加工用電界電離型ヘリウムイオン源と集束技術に関する研究

著者名

堀内, 敬

著者別名

ホリウチ, ケイ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第5220号

学位授与年月日

1990-12-19

注記・抄録

博士論文

09440

工学博士

1990-12-19

大阪大学

14401乙第05220号

目次

  1. 目次 / (0004.jp2)
  2. 第一章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1-1 微細加工と集束イオンビーム技術 / p1 (0005.jp2)
  4. 1-2 電界電離型イオン源の開発状況と本研究の位置づけ / p2 (0006.jp2)
  5. 1-3 本論文の構成 / p5 (0007.jp2)
  6. 第二章 電界電離 / p7 (0008.jp2)
  7. 2―1 電界電離と電界イオン顕微鏡 / p7 (0008.jp2)
  8. 2-2 トンネル確率 / p10 (0010.jp2)
  9. 2-3 イオン電流 / p12 (0011.jp2)
  10. 第三章 電界電離型ヘリウムイオン源 / p24 (0017.jp2)
  11. 3-1 技術的課題 / p24 (0017.jp2)
  12. 3-2 イオン源構造 / p24 (0017.jp2)
  13. 3-3 エミッター作製方法 / p28 (0019.jp2)
  14. 3-4 真空系と導入ガス / p30 (0020.jp2)
  15. 3-5 まとめ / p31 (0020.jp2)
  16. 第四章 イオン源の動作特性 / p34 (0022.jp2)
  17. 4-1 イオン放出特性 / p34 (0022.jp2)
  18. 4-2 動作安定性 / p41 (0025.jp2)
  19. 4-3 検討 / p43 (0026.jp2)
  20. 4-4 まとめ / p50 (0030.jp2)
  21. 第五章 イオン放出特性の解析 / p51 (0030.jp2)
  22. 5-1 W(111)面におけるイオン電流の計算 / p51 (0030.jp2)
  23. 5-2 実験結果との比較 / p60 (0035.jp2)
  24. 5-3 検討 / p62 (0036.jp2)
  25. 5-4 まとめ / p67 (0038.jp2)
  26. 第六章 集束技術 / p69 (0039.jp2)
  27. 6-1 集束装置の構成 / p69 (0039.jp2)
  28. 6-2 軸合わせ機構 / p70 (0040.jp2)
  29. 6-3 集束実験 / p74 (0042.jp2)
  30. 6-4 検討 / p79 (0044.jp2)
  31. 6-5 まとめ / p80 (0045.jp2)
  32. 第七章 総括 / p81 (0045.jp2)
  33. 〔参考文献〕 / p84 (0047.jp2)
  34. 〔研究業績〕 / p87 (0048.jp2)
  35. 〔謝辞〕 / p90 (0050.jp2)
2アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000072674
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000072869
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000236988
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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