集束イオンビームのナノメートル加工への応用に関する研究

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著者

    • 塩川, 高雄 シオカワ, タカオ

書誌事項

タイトル

集束イオンビームのナノメートル加工への応用に関する研究

著者名

塩川, 高雄

著者別名

シオカワ, タカオ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第5223号

学位授与年月日

1990-12-19

注記・抄録

博士論文

09443

博士(工学)

1990-12-19

大阪大学

14401乙第05223号

目次

  1. 目次 / (0004.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1-1 概要 / p1 (0005.jp2)
  4. 1-2 目的 / p5 (0007.jp2)
  5. 1-3 構成 / p6 (0008.jp2)
  6. 第2章 集束イオンビーム装置 / p8 (0009.jp2)
  7. 2-1 はじめに / p8 (0009.jp2)
  8. 2-2 液体金属イオン源 / p8 (0009.jp2)
  9. 2-3 集束イオンビーム装置 / p13 (0011.jp2)
  10. 2-5 まとめ / p30 (0020.jp2)
  11. 第3章 集束イオンビームによるナノメートルリソグラフィ / p31 (0020.jp2)
  12. 3-1 はじめに / p31 (0020.jp2)
  13. 3-2 PMMA、CMSの露光特性 / p31 (0020.jp2)
  14. 3-3 2層レジストによるリソグラフィ / p49 (0029.jp2)
  15. 3-4 まとめ / p57 (0033.jp2)
  16. 第4章 集束イオンビームによる改質と損傷を用いた微細加工 / p58 (0034.jp2)
  17. 4-1 はじめに / p58 (0034.jp2)
  18. 4-2 注入による損傷を利用した微細加工 / p58 (0034.jp2)
  19. 4-3 Si0₂膜の改質による微細加工 / p66 (0038.jp2)
  20. 4-4 まとめ / p71 (0040.jp2)
  21. 第5章 結論 / p72 (0041.jp2)
  22. 参考文献 / p73 (0041.jp2)
  23. 研究業績 / p78 (0044.jp2)
  24. 謝辞 / p90 (0050.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000072677
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000072872
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000236991
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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