置換ポリアセチレンの分離膜およびレジスト特性に関する研究

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著者

    • 高田, 耕一 タカダ, コウイチ

書誌事項

タイトル

置換ポリアセチレンの分離膜およびレジスト特性に関する研究

著者名

高田, 耕一

著者別名

タカダ, コウイチ

学位授与大学

京都大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第7400号

学位授与年月日

1991-01-23

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0001.jp2)
  2. 目次 / (0004.jp2)
  3. 緒論 / p1 (0005.jp2)
  4. 1 )従来の研究 / p1 (0005.jp2)
  5. 2 )置換ポリアチレンの特徴 / p2 (0006.jp2)
  6. 3 )本研究の目的及び概要 / p4 (0007.jp2)
  7. 第1編 ポリ(1 -トリメチルシリル-1-プロピン)酸素富化膜 / (0011.jp2)
  8. 1章 置換ポリアセチレンの気体透過性 / p13 (0012.jp2)
  9. 2章 超薄膜の成形とその複合膜 / p24 (0018.jp2)
  10. 3章 複合膜の経時変化 / p36 (0024.jp2)
  11. 4 章 非対称性膜の成形、その酸素富化機能の複合膜との比較 / p51 (0031.jp2)
  12. 5章 シロキサン基導人による膜性能の経時安定性の向上 / p65 (0038.jp2)
  13. 第2編 ポリフェニルクロロアセチレンの溶液系分離膜への応用 / (0046.jp2)
  14. 第6章 ルーズ逆浸透膜(RO膜)の開発 / p81 (0047.jp2)
  15. 第7章 中空糸型限外濾過膜の開発 / p95 (0054.jp2)
  16. 第3編 ポリ(1-トリメチルシリル-1-プロピン)の超LSI用レジストヘの応用 / (0062.jp2)
  17. 第8章 紫外線照射による分解特性 / p111 (0063.jp2)
  18. 第9章 超LSI用レジストの開発 / p125 (0070.jp2)
  19. 後記 / p137 (0076.jp2)
  20. 本論文に関する研究報告 / p138 (0077.jp2)
  21. 謝辞 / p141 (0078.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000073122
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000073317
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000237436
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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