アモルファス希土類-鉄族合金薄膜の垂直磁気異方性に関する研究

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著者

    • 吉野, 誠司 ヨシノ, セイジ

書誌事項

タイトル

アモルファス希土類-鉄族合金薄膜の垂直磁気異方性に関する研究

著者名

吉野, 誠司

著者別名

ヨシノ, セイジ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第3868号

学位授与年月日

1990-10-31

注記・抄録

博士論文

名古屋大学博士学位論文 学位の種類:工学博士 (論文) 学位授与年月日:平成2年10月31日

目次

  1. 目次 / p1 (0004.jp2)
  2. 第1章 緒論 / p1 (0006.jp2)
  3. 1.1 序 / p1 (0006.jp2)
  4. 1.2 光磁気メモリとRE-TM薄膜研究の歴史 / p2 (0007.jp2)
  5. 1.3 光磁気記録の原理 / p5 (0008.jp2)
  6. 1.4 光磁気記録媒体に要求される性質 / p7 (0009.jp2)
  7. 1.5 RE-TM薄膜の磁性研究の概要 / p9 (0010.jp2)
  8. 1.6 RE-TM合金の磁気ひずみ / p30 (0021.jp2)
  9. 1.7 本研究の目的 / p32 (0022.jp2)
  10. 参考文献 / p34 (0023.jp2)
  11. 第2章 実験方法 / p39 (0025.jp2)
  12. 2.1 序 / p39 (0025.jp2)
  13. 2.2 試料薄膜作製法と膜厚等の評価 / p39 (0025.jp2)
  14. 2.3 磁気特性測定法I一般 / p43 (0027.jp2)
  15. 2.4 磁気特性測定法II磁気ひずみ関連 / p45 (0028.jp2)
  16. 2.5 まとめ / p60 (0036.jp2)
  17. 参考文献 / p61 (0036.jp2)
  18. 第3章 アモルファスGd-Co,Fe薄膜 / p63 (0037.jp2)
  19. 3.1 序 / p63 (0037.jp2)
  20. 3.2 直流四極スパッタ装置による薄膜作製法 / p64 (0038.jp2)
  21. 3.3 実験結果と考察 / p67 (0039.jp2)
  22. 3.4 まとめ / p87 (0049.jp2)
  23. 参考文献 / p90 (0051.jp2)
  24. 第4章 アモルファスTb-Co薄膜 / p92 (0052.jp2)
  25. 4.1 序 / p92 (0052.jp2)
  26. 4.2 実験方法一垂直磁気異方性の決定法 / p92 (0052.jp2)
  27. 4.3 垂直磁気異方性 / p94 (0053.jp2)
  28. 4.4 垂直磁気異方性に及ぼす磁気ひずみの逆効果の寄与 / p98 (0055.jp2)
  29. 4.5 まとめ / p104 (0058.jp2)
  30. 参考文献 / p105 (0058.jp2)
  31. 第5章 アモルファスGd-FeCo薄膜の磁気ひずみと磁気異方性 / p108 (0060.jp2)
  32. 5.1 序 / p108 (0060.jp2)
  33. 5.2 実験方法 / p109 (0060.jp2)
  34. 5.3 実験結果 / p110 (0061.jp2)
  35. 5.4 考察 / p118 (0065.jp2)
  36. 5.5 まとめ / p127 (0069.jp2)
  37. 参考文献 / p128 (0070.jp2)
  38. 第6章 まとめ / p131 (0071.jp2)
  39. 謝辞 / p139 (0075.jp2)
  40. 本研究に関する発表 / p140 (0076.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000073383
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000073579
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000237697
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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