SnF[2]溶液処理合成ハイドロキシアパタイトの表面性状に関するX線光電子学的研究

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著者

    • 上村, 一成 ウエムラ, カズナリ

書誌事項

タイトル

SnF[2]溶液処理合成ハイドロキシアパタイトの表面性状に関するX線光電子学的研究

著者名

上村, 一成

著者別名

ウエムラ, カズナリ

学位授与大学

大阪歯科大学

取得学位

歯学博士

学位授与番号

乙第1061号

学位授与年月日

1991-03-27

注記・抄録

博士論文

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000074095
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000074292
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000238409
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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