DNA切断活性を有するレキシトロプシン類の合成研究

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著者

    • 西脇, 英二 ニシワキ, エイジ

書誌事項

タイトル

DNA切断活性を有するレキシトロプシン類の合成研究

著者名

西脇, 英二

著者別名

ニシワキ, エイジ

学位授与大学

徳島大学

取得学位

薬学博士

学位授与番号

甲第584号

学位授与年月日

1991-03-26

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. 論文内容要旨 / (0003.jp2)
  3. 目次 / (0007.jp2)
  4. 理論の部 / (0009.jp2)
  5. 緒言 / p1 (0010.jp2)
  6. 第1章 従来の研究概要と、著者の研究方針 / p2 (0011.jp2)
  7. 第1節 小分子によるDNA塩基配列の認識に関する従来の研究 / p2 (0011.jp2)
  8. 第2節 新規DNA認識分子の設計に関する著者の研究方針 / p6 (0013.jp2)
  9. 第1項 芳香族ニトロ基をDNA切断活性基として持つレキシトロプシン類について / p6 (0013.jp2)
  10. 第2項 C-末端を修飾したレキシトロプシン類について / p10 (0015.jp2)
  11. 第2章 複素原子を含む芳香族5員環化合物のオリゴマーの合成 / p12 (0016.jp2)
  12. 第1節 合成の歴史と問題点 / p12 (0016.jp2)
  13. 第2節 レキシトロプシン類の新規合成法の開発 / p16 (0018.jp2)
  14. 第1項 ニトロ基を持つオリゴ-N-メチルピロールカルボキシアミド誘導体の合成 / p16 (0018.jp2)
  15. 第2項 ニトロイミダゾール基を持つオリゴ-N-メチルピロールカルボキシアミド誘導体の合成 / p20 (0020.jp2)
  16. 第3節 C-末端を修飾したディスタマイシン誘導体の合成 / p23 (0021.jp2)
  17. 第3章 2-位にカルボニル基を持つピロール誘導体の酸性条件下における重水素置換反応 / p28 (0024.jp2)
  18. 第4章 ニトロ基を持つオリゴマーの紫外線照射下におけるDNA切断活性 / p32 (0026.jp2)
  19. 第1節 プラスミドDNAを用いたDNA切断活性の評価 / p32 (0026.jp2)
  20. 第2節 DNA切断活性に対する種々の活性酸素阻害剤の効果 / p37 (0028.jp2)
  21. 第3節 ESRによるラジカル活性種の検出とDNA切断機構 / p42 (0031.jp2)
  22. 第5章 C-末端を修飾したディスタマイシン誘導体の紫外線照射下におけるDNA切断活性 / p46 (0033.jp2)
  23. 第1節 プラスミドDNAを用いたDNA切断活性の評価 / p46 (0033.jp2)
  24. 第2節 DNA切断活性に対する種々の活性酸素阻害剤の効果 / p50 (0035.jp2)
  25. 第3節 ESRによるラジカル活性種の検出とDNA切断機構 / p54 (0037.jp2)
  26. 結語 / p59 (0039.jp2)
  27. 謝辞 / p60 (0040.jp2)
  28. 実験の部 / p61 (0041.jp2)
  29. 第2章第2節に関する実験 / p62 (0042.jp2)
  30. 第2章第3節に関する実験 / p71 (0046.jp2)
  31. 第3章に関する実験 / p85 (0053.jp2)
  32. 第4章および第5章に関する実験 / p94 (0058.jp2)
  33. 引用文献 / p98 (0060.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000074807
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000075004
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000239121
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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