O[2]およびNO分子線を用いたSi(100)表面反応素過程の動力学的研究

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著者

    • 三宅, 竜也 ミヤケ, タツヤ

書誌事項

タイトル

O[2]およびNO分子線を用いたSi(100)表面反応素過程の動力学的研究

著者名

三宅, 竜也

著者別名

ミヤケ, タツヤ

学位授与大学

豊橋技術科学大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第44号

学位授与年月日

1991-03-22

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 緒論 / p1 (0010.jp2)
  3. 1-1 背景 / p1 (0010.jp2)
  4. 1-2 分子線の特徴 / p3 (0012.jp2)
  5. 1-3 本研究の目的と概要 / p4 (0013.jp2)
  6. 1-4 基礎事項 / p5 (0014.jp2)
  7. 参考文献 / p8 (0017.jp2)
  8. 第2章 超音速分子線-表面反応装置の試作 / p10 (0019.jp2)
  9. 2-1 諸言 / p10 (0019.jp2)
  10. 2-2 装置の構造 / p11 (0020.jp2)
  11. 2-3 飛行時間測定システム / p22 (0031.jp2)
  12. 2-4 共鳴多光子イオン化測定システム / p29 (0038.jp2)
  13. 2-5 結言 / p33 (0042.jp2)
  14. 参考文献 / p34 (0043.jp2)
  15. 第3章 O₂分子線による散乱過程 / p36 (0045.jp2)
  16. 3-1 緒言 / p36 (0045.jp2)
  17. 3-2 実験 / p38 (0047.jp2)
  18. 3-3 速度分布の入射エネルギー依存性 / p39 (0048.jp2)
  19. 3-4 角度分布の入射エネルギー依存性 / p41 (0050.jp2)
  20. 3-5 物理吸着確率 / p44 (0053.jp2)
  21. 3-6 トランスレーショナル・クーリング / p50 (0059.jp2)
  22. 3-7 脱離収量の表面温度依存性 / p54 (0063.jp2)
  23. 3-8 結言 / p58 (0067.jp2)
  24. 参考文献 / p59 (0068.jp2)
  25. 第4章 O₂分子線による解離吸着過程 / p61 (0070.jp2)
  26. 4-1 緒言 / p61 (0070.jp2)
  27. 4-2 実験 / p62 (0071.jp2)
  28. 4-3 酸化量-分子線照射量曲線の入射エネルギー依存性 / p63 (0072.jp2)
  29. 4-4 初期解離吸着確率の表面温度依存性 / p65 (0074.jp2)
  30. 4-5 解離吸着メカニズム / p70 (0079.jp2)
  31. 4-6 吸着構造 / p81 (0090.jp2)
  32. 4-7 結言 / p84 (0093.jp2)
  33. 参考文献 / p85 (0094.jp2)
  34. 第5章 NO分子線による散乱過程 / p88 (0097.jp2)
  35. 5-1 緒言 / p88 (0097.jp2)
  36. 5-2 実験 / p89 (0098.jp2)
  37. 5-3 短パルス分子線によるTOF分布 / p91 (0100.jp2)
  38. 5-4 長パルス分子線を用いた角度分布 / p96 (0105.jp2)
  39. 5-5 表面コルゲーション / p99 (0108.jp2)
  40. 5-6 結言 / p104 (0113.jp2)
  41. 参考文献 / p105 (0114.jp2)
  42. 第6章 結論 / p107 (0116.jp2)
  43. 謝辞 / p110 (0119.jp2)
  44. 発表論文リスト / p111 (0120.jp2)
  45. 論文要旨 / p6 (0006.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000075306
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000075505
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000239620
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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