O[2]およびNO分子線を用いたSi(100)表面反応素過程の動力学的研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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O[2]およびNO分子線を用いたSi(100)表面反応素過程の動力学的研究
- 著者名
-
三宅, 竜也
- 著者別名
-
ミヤケ, タツヤ
- 学位授与大学
-
豊橋技術科学大学
- 取得学位
-
工学博士
- 学位授与番号
-
甲第44号
- 学位授与年月日
-
1991-03-22
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / p1 (0003.jp2)
- 第1章 緒論 / p1 (0010.jp2)
- 1-1 背景 / p1 (0010.jp2)
- 1-2 分子線の特徴 / p3 (0012.jp2)
- 1-3 本研究の目的と概要 / p4 (0013.jp2)
- 1-4 基礎事項 / p5 (0014.jp2)
- 参考文献 / p8 (0017.jp2)
- 第2章 超音速分子線-表面反応装置の試作 / p10 (0019.jp2)
- 2-1 諸言 / p10 (0019.jp2)
- 2-2 装置の構造 / p11 (0020.jp2)
- 2-3 飛行時間測定システム / p22 (0031.jp2)
- 2-4 共鳴多光子イオン化測定システム / p29 (0038.jp2)
- 2-5 結言 / p33 (0042.jp2)
- 参考文献 / p34 (0043.jp2)
- 第3章 O₂分子線による散乱過程 / p36 (0045.jp2)
- 3-1 緒言 / p36 (0045.jp2)
- 3-2 実験 / p38 (0047.jp2)
- 3-3 速度分布の入射エネルギー依存性 / p39 (0048.jp2)
- 3-4 角度分布の入射エネルギー依存性 / p41 (0050.jp2)
- 3-5 物理吸着確率 / p44 (0053.jp2)
- 3-6 トランスレーショナル･クーリング / p50 (0059.jp2)
- 3-7 脱離収量の表面温度依存性 / p54 (0063.jp2)
- 3-8 結言 / p58 (0067.jp2)
- 参考文献 / p59 (0068.jp2)
- 第4章 O₂分子線による解離吸着過程 / p61 (0070.jp2)
- 4-1 緒言 / p61 (0070.jp2)
- 4-2 実験 / p62 (0071.jp2)
- 4-3 酸化量-分子線照射量曲線の入射エネルギー依存性 / p63 (0072.jp2)
- 4-4 初期解離吸着確率の表面温度依存性 / p65 (0074.jp2)
- 4-5 解離吸着メカニズム / p70 (0079.jp2)
- 4-6 吸着構造 / p81 (0090.jp2)
- 4-7 結言 / p84 (0093.jp2)
- 参考文献 / p85 (0094.jp2)
- 第5章 NO分子線による散乱過程 / p88 (0097.jp2)
- 5-1 緒言 / p88 (0097.jp2)
- 5-2 実験 / p89 (0098.jp2)
- 5-3 短パルス分子線によるTOF分布 / p91 (0100.jp2)
- 5-4 長パルス分子線を用いた角度分布 / p96 (0105.jp2)
- 5-5 表面コルゲーション / p99 (0108.jp2)
- 5-6 結言 / p104 (0113.jp2)
- 参考文献 / p105 (0114.jp2)
- 第6章 結論 / p107 (0116.jp2)
- 謝辞 / p110 (0119.jp2)
- 発表論文リスト / p111 (0120.jp2)
- 論文要旨 / p6 (0006.jp2)
