高エネルギーイオンビームを用いた表面分析装置の開発研究

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著者

    • 井上, 憲一 イノウエ, ケンイチ

書誌事項

タイトル

高エネルギーイオンビームを用いた表面分析装置の開発研究

著者名

井上, 憲一

著者別名

イノウエ, ケンイチ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第5287号

学位授与年月日

1991-02-26

注記・抄録

博士論文

09515

博士(工学)

1991-02-26

大阪大学

14401乙第05287号

目次

  1. 目次 / (0005.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0007.jp2)
  3. 1-1.研究の背景 / p1 (0007.jp2)
  4. 1-2.高エネルギーイオン分析装置の現状 / p3 (0008.jp2)
  5. 1-3.論文の構成 / p6 (0010.jp2)
  6. 第2章 高エネルギーイオン分析の基本原理と応用 / p10 (0012.jp2)
  7. 2-1.RBS法 / p10 (0012.jp2)
  8. 2-2.PIXE法 / p17 (0015.jp2)
  9. 2-3.ERDA法 / p20 (0017.jp2)
  10. 2-4.チャネリングを利用した結晶評価 / p22 (0018.jp2)
  11. 2-5.他の表面分析手法との比較 / p24 (0019.jp2)
  12. 第3章 イオンマイクロプローブの実現 / p26 (0020.jp2)
  13. 3-1.概説 1.5MeV マイクロビームラインの概要 / p26 (0020.jp2)
  14. 3-2.イオン軌道追跡シミュレーション / p33 (0023.jp2)
  15. 3-3.ビームスポット径の測定 / p41 (0027.jp2)
  16. 3-4.最小ビーム径を決定する要因 / p44 (0029.jp2)
  17. 3-5.まとめ / p52 (0033.jp2)
  18. 第4章 サブミクロン・ビーム集束光学系の開発 / p53 (0033.jp2)
  19. 4-1.サブミクロン・プローブを実現するための課題 / p53 (0033.jp2)
  20. 4-2.0.5MeV マイクロビームラインの設計・製作 / p56 (0035.jp2)
  21. 4-3.低収差四重極レンズの開発 / p61 (0038.jp2)
  22. 4-4.低散乱対物スリットの開発 / p69 (0042.jp2)
  23. 4-5.ビーム集束特性の評価 / p72 (0043.jp2)
  24. 4-6.まとめ / p73 (0044.jp2)
  25. 第5章 実用イオン分析装置の開発 / p74 (0044.jp2)
  26. 5-1.設計概念 / p74 (0044.jp2)
  27. 5-2.装置構成 / p77 (0046.jp2)
  28. 5-3.ビーム光学系の評価 / p90 (0053.jp2)
  29. 5-4.特性試験結果 / p97 (0056.jp2)
  30. 5-5.他ビームラインとの仕様比較 / p106 (0061.jp2)
  31. 5-6.まとめ / p109 (0062.jp2)
  32. 第6章 高エネルギーイオンプローブを用いた応用分析の開拓 / p110 (0063.jp2)
  33. 6-1.イオン分析における分析画像化手法 / p110 (0063.jp2)
  34. 6-2.照射損傷における非破壊分析の限界 / p117 (0068.jp2)
  35. 6-3.まとめ / p124 (0072.jp2)
  36. 第7章 結論 / p125 (0072.jp2)
  37. 謝辞 / p128 (0074.jp2)
  38. 参考文献 / p130 (0075.jp2)
  39. 研究業績目録 / p135 (0077.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000075884
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000076085
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000240198
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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