Nuclear magnetic resonance studies on H and F in amorphous silicon and related materials アモルファスシリコンと関連物質の水素とフッ素の核磁気共鳴

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著者

    • 上田, 庄一 ウエダ, ショウイチ

書誌事項

タイトル

Nuclear magnetic resonance studies on H and F in amorphous silicon and related materials

タイトル別名

アモルファスシリコンと関連物質の水素とフッ素の核磁気共鳴

著者名

上田, 庄一

著者別名

ウエダ, ショウイチ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第5289号

学位授与年月日

1991-02-26

注記・抄録

博士論文

09517

博士(工学)

1991-02-26

大阪大学

14401乙第05289号

目次

  1. Contents / p4 (0006.jp2)
  2. 1.Introduction / p1 (0007.jp2)
  3. 2.Experimental Method / p7 (0013.jp2)
  4. 2.1 Sample Preparation / p7 (0013.jp2)
  5. 2.2 NMR and ESR Measurements / p7 (0013.jp2)
  6. 3.F and H NMR in a-Si:(F,H) and a-Si:H / p9 (0015.jp2)
  7. 3.1 F and H NMR and ESR in a-Si:(F,H) and a-Si:H / p9 (0015.jp2)
  8. 3.2 Annealing Effects / p14 (0020.jp2)
  9. 3.3 Motional Narrowing Effect / p19 (0025.jp2)
  10. 4.Role of Hydrogen and Fluorine / p31 (0037.jp2)
  11. 5.NMR and IR Studies on Hydrogenated Amorphous [化学式]Films / p39 (0045.jp2)
  12. 6.H NMR in μc-Si:H / p49 (0055.jp2)
  13. 7.Conclusion / p56 (0062.jp2)
  14. References / p57 (0063.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000075886
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000076087
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000240200
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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