酸化物超伝導薄膜のエピタキシャル成長に関する研究

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著者

    • 田中, 三郎 タナカ, サブロウ

書誌事項

タイトル

酸化物超伝導薄膜のエピタキシャル成長に関する研究

著者名

田中, 三郎

著者別名

タナカ, サブロウ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第5298号

学位授与年月日

1991-02-26

注記・抄録

博士論文

09526

博士(工学)

1991-02-26

大阪大学

14401乙第05298号

目次

  1. 目次 / (0005.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0008.jp2)
  3. 1-1 研究の背景 / p1 (0008.jp2)
  4. 1-2 酸化物超伝導体の薄膜化における課題 / p2 (0009.jp2)
  5. 1-3 論文の構成 / p6 (0013.jp2)
  6. 参考文献 / p7 (0014.jp2)
  7. 第2章 酸化物超伝導薄膜のエピタキシャル成長過程 / p8 (0015.jp2)
  8. 2-1 緒言 / p8 (0015.jp2)
  9. 2-2 薄膜のエピタキシャル成長 / p8 (0015.jp2)
  10. 2-3 結語 / p19 (0026.jp2)
  11. 参考文献 / p20 (0027.jp2)
  12. 第3章 酸化物超伝導薄膜の成長 / p21 (0028.jp2)
  13. 3-1 緒言 / p21 (0028.jp2)
  14. 3-2 酸化物超伝導薄膜の作製方法 / p21 (0028.jp2)
  15. 3-3 希土類元素置換 / p25 (0032.jp2)
  16. 3-4 配向性制御 / p27 (0034.jp2)
  17. 3-5 酸素アニールの効果 / p39 (0046.jp2)
  18. 3-6 薄膜/基板界面の検討 / p48 (0055.jp2)
  19. 3-7 超伝導薄膜上におけるMgO超薄膜の成長 / p55 (0062.jp2)
  20. 3-8 SIS積層構造の結晶性 / p60 (0067.jp2)
  21. 3-9 結語 / p62 (0069.jp2)
  22. 参考文献 / p64 (0071.jp2)
  23. 第4章 酸化物超伝導薄膜の物性 / p66 (0073.jp2)
  24. 4-1 緒言 / p66 (0073.jp2)
  25. 4-2 臨界電流密度の評価 / p66 (0073.jp2)
  26. 4-3 磁気的基礎物性の評価 / p71 (0078.jp2)
  27. 4-4 粒界型ジョセフソン接合 / p76 (0083.jp2)
  28. 4-5 SIS構造の電気特性 / p79 (0086.jp2)
  29. 4-6 パルス伝送特性の評価 / p81 (0088.jp2)
  30. 4-7 結語 / p83 (0090.jp2)
  31. 参考文献 / p84 (0091.jp2)
  32. 第5章 結論 / p86 (0093.jp2)
  33. 謝辞 / p89 (0096.jp2)
  34. 付録 / p91 (0098.jp2)
  35. 付-1 Fick's Law シミュレーションプログラム / p91 (0098.jp2)
  36. 付-2 酸化物超伝導薄膜の加工プロセス / p92 (0099.jp2)
  37. 研究業績目録 / p97 (0104.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000075895
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000076096
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000240209
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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