Microscopic theory of initial oxidation on Si(100) surfaces 結晶表面の酸化初期過程

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著者

    • 宮本, 良之 ミヤモト, ヨシユキ

書誌事項

タイトル

Microscopic theory of initial oxidation on Si(100) surfaces

タイトル別名

結晶表面の酸化初期過程

著者名

宮本, 良之

著者別名

ミヤモト, ヨシユキ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第5302号

学位授与年月日

1991-02-26

注記・抄録

博士論文

09530

博士(工学)

1991-02-26

大阪大学

14401乙第05302号

目次

  1. Contents / p3 (0004.jp2)
  2. 1 Introduction / p5 (0005.jp2)
  3. 1.1 Motivation / p5 (0005.jp2)
  4. 1.2 Historical survey / p8 (0006.jp2)
  5. 1.3 The structure of the Si(1OO) surfaces / p16 (0010.jp2)
  6. 1.4 Organization of present thesis / p17 (0011.jp2)
  7. 2 Calculation / p19 (0012.jp2)
  8. 2.1 Total energy and forces within the local density approximation / p19 (0012.jp2)
  9. 2.2 Confirmation of the validity of present gaussian basis set / p24 (0014.jp2)
  10. 2.3 The conditions of the present calculations / p26 (0015.jp2)
  11. 3 Energetics of initial oxidation / p28 (0016.jp2)
  12. 3.1 Dissociation of an O₂ molecule on the Si(100) surface / p29 (0017.jp2)
  13. 3.2 Adsorption of an O atom on the Si(100) surface / p32 (0018.jp2)
  14. 3.3 Comparison with the experimental results / p35 (0020.jp2)
  15. 3.4 Penetration and adsorption of oxygen through oxygen covered surface / p39 (0022.jp2)
  16. 4 Discussion / p43 (0024.jp2)
  17. 4.1 The possible geometries of adsorbed oxygen / p43 (0024.jp2)
  18. 4.2 The kinetics of oxidation on the Si(100) surface / p46 (0025.jp2)
  19. 4.3 For the further understanding of the oxidation / p49 (0027.jp2)
  20. 5 Concluding remarks / p52 (0028.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000075899
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000076100
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000000240213
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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