スパッタ法による銅酸化物系積層膜の作製と電気伝導特性に関する研究

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著者

    • 中村, 稔之 ナカムラ, トシユキ

書誌事項

タイトル

スパッタ法による銅酸化物系積層膜の作製と電気伝導特性に関する研究

著者名

中村, 稔之

著者別名

ナカムラ, トシユキ

学位授与大学

日本大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第2007号

学位授与年月日

1991-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1-1 研究の位置づけ / p1 (0005.jp2)
  4. 1-2 研究の目的と意義 / p4 (0007.jp2)
  5. 1-3 研究の構成 / p6 (0008.jp2)
  6. 2章 積層膜作製装置 / p9 (0009.jp2)
  7. 2-1 まえがき / p9 (0009.jp2)
  8. 2-2 積層膜作製装置の作製 / p10 (0010.jp2)
  9. 2-3 積層膜の基本構造 / p15 (0012.jp2)
  10. 2-4 まとめ / p20 (0015.jp2)
  11. 3章 Cu-O薄膜の作製と電気伝導特性 / p21 (0015.jp2)
  12. 3-1 まえがき / p21 (0015.jp2)
  13. 3-2 Cu-O薄膜の作製条件 / p23 (0016.jp2)
  14. 3-3 Cu-O薄膜の構造評価 / p25 (0017.jp2)
  15. 3-4 Cu-O薄膜の電気伝導特性 / p41 (0025.jp2)
  16. 3-5 まとめ / p48 (0029.jp2)
  17. 4章 Cu-O/Ni-02 層膜の作製と電気伝導特性 / p49 (0029.jp2)
  18. 4-1 まえがき / p49 (0029.jp2)
  19. 4-2 Ni-0薄膜の作製および構造評価 / p51 (0030.jp2)
  20. 4-3 Cu-O/Ni-02 層膜の構造評価 / p56 (0033.jp2)
  21. 4-4 Cu-O/Ni-02 層膜の電気伝導特性 / p59 (0034.jp2)
  22. 4-5 まとめ / p60 (0035.jp2)
  23. 5章 Cu-O系積層膜の作製と電気伝導特性 / p61 (0035.jp2)
  24. 5-1 まえがき / p61 (0035.jp2)
  25. 5-2 Cu-O/Ni-O積層膜 / p63 (0036.jp2)
  26. 5-3 Cu-O/Nb-O積層膜 / p69 (0039.jp2)
  27. 5-4 まとめ / p82 (0046.jp2)
  28. 6章 結論 / p84 (0047.jp2)
  29. 謝辞 / p88 (0049.jp2)
  30. 参考文献 / p89 (0049.jp2)
  31. 発表論文 / (0050.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000075998
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000076199
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000240312
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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