スパッタ法による銅酸化物系積層膜の作製と電気伝導特性に関する研究
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Bibliographic Information
- Title
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スパッタ法による銅酸化物系積層膜の作製と電気伝導特性に関する研究
- Author
-
中村, 稔之
- Author(Another name)
-
ナカムラ, トシユキ
- University
-
日本大学
- Types of degree
-
工学博士
- Grant ID
-
甲第2007号
- Degree year
-
1991-03-25
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 目次 / (0003.jp2)
- 1章 序論 / p1 (0005.jp2)
- 1-1 研究の位置づけ / p1 (0005.jp2)
- 1-2 研究の目的と意義 / p4 (0007.jp2)
- 1-3 研究の構成 / p6 (0008.jp2)
- 2章 積層膜作製装置 / p9 (0009.jp2)
- 2-1 まえがき / p9 (0009.jp2)
- 2-2 積層膜作製装置の作製 / p10 (0010.jp2)
- 2-3 積層膜の基本構造 / p15 (0012.jp2)
- 2-4 まとめ / p20 (0015.jp2)
- 3章 Cu-O薄膜の作製と電気伝導特性 / p21 (0015.jp2)
- 3-1 まえがき / p21 (0015.jp2)
- 3-2 Cu-O薄膜の作製条件 / p23 (0016.jp2)
- 3-3 Cu-O薄膜の構造評価 / p25 (0017.jp2)
- 3-4 Cu-O薄膜の電気伝導特性 / p41 (0025.jp2)
- 3-5 まとめ / p48 (0029.jp2)
- 4章 Cu-O/Ni-02 層膜の作製と電気伝導特性 / p49 (0029.jp2)
- 4-1 まえがき / p49 (0029.jp2)
- 4-2 Ni-0薄膜の作製および構造評価 / p51 (0030.jp2)
- 4-3 Cu-O/Ni-02 層膜の構造評価 / p56 (0033.jp2)
- 4-4 Cu-O/Ni-02 層膜の電気伝導特性 / p59 (0034.jp2)
- 4-5 まとめ / p60 (0035.jp2)
- 5章 Cu-O系積層膜の作製と電気伝導特性 / p61 (0035.jp2)
- 5-1 まえがき / p61 (0035.jp2)
- 5-2 Cu-O/Ni-O積層膜 / p63 (0036.jp2)
- 5-3 Cu-O/Nb-O積層膜 / p69 (0039.jp2)
- 5-4 まとめ / p82 (0046.jp2)
- 6章 結論 / p84 (0047.jp2)
- 謝辞 / p88 (0049.jp2)
- 参考文献 / p89 (0049.jp2)
- 発表論文 / (0050.jp2)