高温酸化物超伝導体を用いた三端子素子の基礎研究

この論文をさがす

著者

    • 明吉, 智幸 アケヨシ, トモユキ

書誌事項

タイトル

高温酸化物超伝導体を用いた三端子素子の基礎研究

著者名

明吉, 智幸

著者別名

アケヨシ, トモユキ

学位授与大学

横浜国立大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第56号

学位授与年月日

1991-03-27

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0004.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 酸化物超伝導体研究の背景と現状 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 本研究の目的と意義 / p2 (0006.jp2)
  5. 第2章 酸化物超伝導体の薄膜化に関する研究 / p3 (0006.jp2)
  6. 2.1 概要 / p3 (0006.jp2)
  7. 2.2 酸化物超伝導体とその薄膜化技術 / p3 (0006.jp2)
  8. 2.3 スパッタ法によるビスマス系酸化物超伝導体薄膜の作成 / p9 (0009.jp2)
  9. 2.4 結論 / p52 (0031.jp2)
  10. 参考文献 / p53 (0031.jp2)
  11. 第3章 酸化物超伝導体薄膜の電気的特性に関する研究 / p55 (0032.jp2)
  12. 3.1 概要 / p55 (0032.jp2)
  13. 3.2 試料の作成及び測定方法 / p55 (0032.jp2)
  14. 3.3 抵抗の温度依存性 / p58 (0034.jp2)
  15. 3.4 超伝導特性を持つ薄膜の電気的特性 / p60 (0035.jp2)
  16. 3.5 非超伝導特性を持つ薄膜の電気的特性 / p67 (0038.jp2)
  17. 3.6 結論 / p74 (0042.jp2)
  18. 参考文献 / p75 (0042.jp2)
  19. 第4章 酸化物超伝導体を用いた三端子素子に関する研究 / p77 (0043.jp2)
  20. 4.1 背景 / p77 (0043.jp2)
  21. 4.2 三端子素子の作製方法 / p77 (0043.jp2)
  22. 4.3 酸化物超伝導体薄膜のブリッジ構造の特性 / p82 (0046.jp2)
  23. 4.4 電界効果三端子素子 / p85 (0047.jp2)
  24. 4.5 結論 / p93 (0051.jp2)
  25. 参考文献 / p94 (0052.jp2)
  26. 第5章 結論 / p95 (0052.jp2)
  27. 付録 / (0053.jp2)
  28. 研究業績報告 / A1 / (0054.jp2)
0アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000076181
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000076384
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000240495
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ