散乱蛍光X線の屈折現象を利用した新しい表面分析法

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著者

    • 佐々木, 裕次 ササキ, ユウジ

書誌事項

タイトル

散乱蛍光X線の屈折現象を利用した新しい表面分析法

著者名

佐々木, 裕次

著者別名

ササキ, ユウジ

学位授与大学

東北大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第4428号

学位授与年月日

1991-03-28

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0006.jp2)
  2. 第1章 序論 / (0009.jp2)
  3. 1-1 X線(蛍光X線)による表面分析 / p6 (0010.jp2)
  4. 1-2 X線の屈折現象 / p8 (0012.jp2)
  5. 1-3 蛍光X線の屈折現象を利用した新しい表面分析法の検討 / p10 (0014.jp2)
  6. 第2章 原理と実験方法 / (0018.jp2)
  7. 2-1 X線の屈折率と全反射現象 / p15 (0019.jp2)
  8. 2-2 レーザを用いた表面ラフネスの測定原理 / p21 (0025.jp2)
  9. 2-3 X線の入射角 / p25 (0029.jp2)
  10. 2-4 蛍光X線の取り出し角 / p28 (0032.jp2)
  11. 2-5 試料薄膜の作製 / p29 (0033.jp2)
  12. 2-6 イオン・インプランテーション / p30 (0034.jp2)
  13. 第3章 蛍光X線強度の取り出し角分布 / (0037.jp2)
  14. 3-1 X線垂直入射による蛍光X線強度の取り出し角依存性 / p34 (0038.jp2)
  15. 3-2 全反射X線入射による蛍光X線強度の取り出し角依存性-I(基板に多結晶を用いた場合) / p40 (0044.jp2)
  16. 3-3 全反射X線入射による蛍光X線強度の取り出し角依存性-II(基板に単結晶を用いた場合) / p47 (0051.jp2)
  17. 3-4 MBE法により作製したGaAs超薄膜 / p58 (0062.jp2)
  18. 3-5 基板の表面ラフネス依存性 / p63 (0067.jp2)
  19. 3-6 蛍光X線の取り出し角強度分布の膜厚依存性 / p67 (0071.jp2)
  20. 3-7 コッセル線について / p71 (0075.jp2)
  21. 3-8 まとめ / p79 (0083.jp2)
  22. 第4章 屈折蛍光X線(RXF)の発生メカニズム / (0086.jp2)
  23. 4-1 水溶液滴下による成膜 / p83 (0087.jp2)
  24. 4-2 蛍光X線強度の取り出し角分布I(θt)の数式化 / p88 (0092.jp2)
  25. 4-3 パラメータとしての膜厚と表面ラフネス / p100 (0104.jp2)
  26. 4-4 まとめ / p103 (0107.jp2)
  27. 第5章 屈折蛍光X線(RXF)の応用 / (0109.jp2)
  28. 5-1 Pb、Cu基板におけるI(θt) / p106 (0110.jp2)
  29. 5-2 不連続膜から連続膜への変化 / p114 (0118.jp2)
  30. 5-3 Au/Mn系における表面反応 / p121 (0125.jp2)
  31. 5-4 蛍光X線の干渉効果(Kiessig's Fringes) / p130 (0134.jp2)
  32. 5-5 新しい分光システム:RDS / p143 (0147.jp2)
  33. 5-6 非破壊深さ分析 / p150 (0154.jp2)
  34. 5-7 有機薄膜の配向分析 / p171 (0175.jp2)
  35. 第6章 屈折蛍光X線(RXF)の定量化 / (0185.jp2)
  36. 6-1 定量化のための2つの考察 / p182 (0186.jp2)
  37. 6-2 自己吸収効果の低減 / p193 (0197.jp2)
  38. 第7章 総論 / (0202.jp2)
  39. 7-1 結論 / p199 (0203.jp2)
  40. 7-2 X線の屈折現象の行方 / p203 (0207.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000076808
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000077011
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000241122
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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