DC薄膜形エレクトロルミネセンス素子の作製プロセスとその評価に関する研究

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著者

    • 長谷川, 秀雄 ハセガワ, ヒデオ

書誌事項

タイトル

DC薄膜形エレクトロルミネセンス素子の作製プロセスとその評価に関する研究

著者名

長谷川, 秀雄

著者別名

ハセガワ, ヒデオ

学位授与大学

東京電機大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第36号

学位授与年月日

1991-05-07

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 研究の背景 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 ELの発展と問題点 / p1 (0005.jp2)
  5. 1.3 研究の目的 / p6 (0008.jp2)
  6. 1.4 研究の概要 / p7 (0008.jp2)
  7. 第1章参考文献 / p11 (0010.jp2)
  8. 第2章 一源蒸着法によるZnS膜の作成条件とEL特性 / p14 (0012.jp2)
  9. 2.1 まえがき / p14 (0012.jp2)
  10. 2.2 実験方法 / p15 (0012.jp2)
  11. 2.3 蛍光体の蒸発特性 / p17 (0013.jp2)
  12. 2.4 ZnS(Cu,Mn,Cl)蒸着EL膜の諸特性 / p24 (0017.jp2)
  13. 2.5 むすび / p34 (0022.jp2)
  14. 第2章参考文献 / p35 (0022.jp2)
  15. 第3章 改良形一源蒸着法によるZnS(Cu,Mn,Cl)膜の直流EL / p39 (0024.jp2)
  16. 3.1 まえがき / p39 (0024.jp2)
  17. 3.2 改良形蒸着装置 / p39 (0024.jp2)
  18. 3.3 改良I形一源蒸着法によるZnS(Cu,Mn,Cl)膜の諸特性 / p40 (0025.jp2)
  19. 3.4 改良II形一源蒸着法によるZnS(Cu,Mn,Cl)膜の諸特性 / p42 (0026.jp2)
  20. 3.5 むすび / p47 (0028.jp2)
  21. 第3章参考文献 / p47 (0028.jp2)
  22. 第4章 蒸着拡散法によるZnS(Cu,Mn)膜の直流EL / p49 (0029.jp2)
  23. 4.1 まえがき / p49 (0029.jp2)
  24. 4.2 ZnS(Cu,Mn)膜の作成方法 / p49 (0029.jp2)
  25. 4.3 ZnS(Cu,Mn)膜のPL,ELおよび寿命特性 / p51 (0030.jp2)
  26. 4.4 ZnS(Cu,Mn)膜の膜厚と発光特性 / p55 (0032.jp2)
  27. 4.5 Al酸化層の効果 / p61 (0035.jp2)
  28. 4.6 発光中心Mnの濃度,励起確率,到達可能発光効率 / p64 (0037.jp2)
  29. 4.7 むすび / p69 (0039.jp2)
  30. 第4章参考文献 / p70 (0040.jp2)
  31. 第5章 ZnS(Cu,Mn)膜素子の加熱フォーミングとEL特性 / p73 (0041.jp2)
  32. 5.1 まえがき / p73 (0041.jp2)
  33. 5.2 フォーミング条件とEL特性 / p74 (0042.jp2)
  34. 5.3 素子の再短絡化とCu濃度 / p78 (0044.jp2)
  35. 5.4 Au電極とAl電極 / p79 (0044.jp2)
  36. 5.5 むすび / p83 (0046.jp2)
  37. 第5章参考文献 / p84 (0047.jp2)
  38. 第6章 ZnS(Cu,Mn)膜素子の障壁構造と発光動作 / p85 (0047.jp2)
  39. 6.1 まえがき / p85 (0047.jp2)
  40. 6.2 光起電力特性 / p85 (0047.jp2)
  41. 6.3 輝度-電圧特性 / p89 (0049.jp2)
  42. 6.4 電流-電圧特性 / p93 (0051.jp2)
  43. 6.5 むすび / p95 (0052.jp2)
  44. 第6章参考文献 / p96 (0053.jp2)
  45. 第7章 ZnS(Cu,Mn,Cl)薄膜EL素子のメモリー作用と光増幅素子への可能性 / p98 (0054.jp2)
  46. 7.1 まえがき / p98 (0054.jp2)
  47. 7.2 メモリー特性 / p98 (0054.jp2)
  48. 7.3 PEL特性 / p100 (0055.jp2)
  49. 7.4 むすび / p103 (0056.jp2)
  50. 第7章参考文献 / p103 (0056.jp2)
  51. 第8章 結論 / p105 (0057.jp2)
  52. 謝辞 / p108 (0059.jp2)
  53. 著者発表論文 / p109 (0059.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000077020
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000077223
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000241334
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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