生体分子系のLangmuir-Blodgett膜形成機構と評価

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著者

    • 石井, 淑夫, 1939- イシイ, トシオ

書誌事項

タイトル

生体分子系のLangmuir-Blodgett膜形成機構と評価

著者名

石井, 淑夫, 1939-

著者別名

イシイ, トシオ

学位授与大学

広島大学

取得学位

学術博士

学位授与番号

乙第2112号

学位授与年月日

1991-02-21

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序章 / p1 (0006.jp2)
  3. -研究の目的とその背景- / p1 (0006.jp2)
  4. 第2章 LB膜作製法とその周辺技術(分子累積技術) / p4 (0008.jp2)
  5. 2.1 水面上に単分子膜を拡げる過程 / p4 (0008.jp2)
  6. 2.2 単分子膜の表面圧力制御 / p4 (0008.jp2)
  7. 2.3 LB膜 / p6 (0009.jp2)
  8. 2.4 水平付着法 / p8 (0010.jp2)
  9. 2.5 水平下面付着法 / p10 (0011.jp2)
  10. 2.6 水平付着垂直取り出し法(岩橋・清宮法) / p10 (0011.jp2)
  11. 2.7 傾斜累積法 / p10 (0011.jp2)
  12. 2.8 円筒回転法 / p12 (0012.jp2)
  13. 2.9 水面下降法(ファネル法) / p12 (0012.jp2)
  14. 2.10 滴板法 / p12 (0012.jp2)
  15. 2.11 複合累積膜作製法 / p14 (0013.jp2)
  16. 2.12 多水槽型累積装置を用いた複合膜作製法 / p14 (0013.jp2)
  17. 2.13 水層間に多層膜を作る方法 / p16 (0014.jp2)
  18. 2.14 水中に二分子膜を作る方法 / p18 (0015.jp2)
  19. 第3章 表面汚染 / p20 (0016.jp2)
  20. 3.1 表面汚染の測定法 / p20 (0016.jp2)
  21. 3.2 汚染源の探索 / p22 (0017.jp2)
  22. 3.3 気相からの表面汚染の確認 / p23 (0017.jp2)
  23. 3.4 清浄な表面を得る手段 / p24 (0018.jp2)
  24. 3.5 器具の一般的洗浄法 / p25 (0018.jp2)
  25. 3.6 LB膜作製装置の洗浄 / p26 (0019.jp2)
  26. 3.7 アルカリアルコール溶液 / p27 (0019.jp2)
  27. 3.8 クロム酸混液 / p28 (0020.jp2)
  28. 3.9 純水 / p29 (0020.jp2)
  29. 3.10 水流ポンプによる水面の清掃 / p30 (0021.jp2)
  30. 3.11 板バリヤーによる水面の清掃 / p32 (0022.jp2)
  31. 3.12 汚れの止め方 / p34 (0023.jp2)
  32. 3.13 展開溶媒の精製 / p34 (0023.jp2)
  33. 3.14 手の洗い方 / p36 (0024.jp2)
  34. 第4章 単分子膜の形成過程 / p38 (0025.jp2)
  35. 4.1 表面張力 / p38 (0025.jp2)
  36. 4.2 表面張力測定法 / p40 (0026.jp2)
  37. 4.3 単分子膜の形成能力 / p44 (0028.jp2)
  38. 4.4 展開の条件としての拡張係数 / p46 (0029.jp2)
  39. 4.5 表面圧面積曲線 / p48 (0030.jp2)
  40. 4.6 膜物質のイオン化 / p51 (0031.jp2)
  41. 4.7 緩衝液 / p53 (0032.jp2)
  42. 4.8 イオン強度と多価金属イオンの影響 / p55 (0033.jp2)
  43. 4.9 単分子膜に対する塩の影響 / p56 (0034.jp2)
  44. 4.10 pH調節用の試薬や無機塩の精製方法 / p57 (0034.jp2)
  45. 第5章 展開溶媒構成物質の役割 / p58 (0035.jp2)
  46. 5.1 分散物質(Disperser) / p59 (0035.jp2)
  47. 5.2 親媒性強化物質(Lyophi1ic strengthener) / p60 (0036.jp2)
  48. 5.3 充鎭物質(Filler) / p62 (0037.jp2)
  49. 5.4 保護物質(Protector) / p65 (0038.jp2)
  50. 5.5 作用物質(Interactant) / p66 (0039.jp2)
  51. 5.6 添加物中に含まれる炭素原子の数が増大したときに生じる添加物の役割変化 / p68 (0040.jp2)
  52. 第6章 LB膜作成手順 / p70 (0041.jp2)
  53. 6.1 累積基板の準備 / p70 (0041.jp2)
  54. 6.2 下層液の準備 / p72 (0042.jp2)
  55. 6.3 KuhnのLB膜累積装置の準備 / p72 (0042.jp2)
  56. 6.4 膜の展開 / p74 (0043.jp2)
  57. 6.5 LB膜の累積 / p75 (0043.jp2)
  58. 6.6 階段状累積膜 / p76 (0044.jp2)
  59. 6.7 単分子膜の展開に使われる小道具 / p78 (0045.jp2)
  60. 第7章 LB膜累積の基礎 / p84 (0048.jp2)
  61. 7.1 累積比 / p84 (0048.jp2)
  62. 7.2 累積過程の定量的表現法 / p86 (0049.jp2)
  63. 7.3 比累積比 / p86 (0049.jp2)
  64. 7.4 累積時における接触角 / p88 (0050.jp2)
  65. 7.5 LB膜の接着 / p89 (0050.jp2)
  66. 7.6 基板との相互作用の小さなLB膜 / p90 (0051.jp2)
  67. 7.7 ステアリン酸LB膜にみる累積基板の影響 / p90 (0051.jp2)
  68. 7.8 累積時における膜分子のオーバーターニング / p91 (0051.jp2)
  69. 7.9 市販の装置による実測例 / p92 (0052.jp2)
  70. 7.10 市販のLB膜作製装置の使用にあたっての注意 / p92 (0052.jp2)
  71. 第8章 タンパク質単分子膜の形成 / p96 (0054.jp2)
  72. 8.1 エナメルタンパクを構成するセグメントの界面変性(セグメントの選択性) / p97 (0054.jp2)
  73. 8.2 卵白アルブミン単分子膜の表面変性過程 / p99 (0055.jp2)
  74. 8.3 卵白アルブミンの単分子膜形成に対する展開液添加物の影響 / p102 (0057.jp2)
  75. 8.4 気水界面におけるポリ-L-グルタミン酸の配向状態 / p104 (0058.jp2)
  76. 第9章 LB膜中での分子の配向と運動 / p110 (0061.jp2)
  77. 9.1 ガラス板上にこすりつけられたステアリン酸鉄の分子配向 / p110 (0061.jp2)
  78. 9.2 ジオレイルレシチン累積時におけるoverturningの実証 / p112 (0062.jp2)
  79. 第10章 墨流しパターン解析の基礎 / p120 (0066.jp2)
  80. 10.1 墨流しとマーブリングによって作られる図形 / p120 (0066.jp2)
  81. 10.2 いろいろな次元の概念とフラクタル次元 / p122 (0067.jp2)
  82. 10.3 実際の系でフラクタル次元を求めるときの問題点 / p128 (0070.jp2)
  83. 10.4 墨流し・マーブリングで作られたパターンの解析 / p129 (0070.jp2)
  84. 10.5 図形のρ-被覆によるスペクトル表示 / p130 (0071.jp2)
  85. 10.6 膜構成分子の運動方程式と時空間の図形解析 / p130 (0071.jp2)
  86. 第11章 神経類似機能をもつ有機薄膜 / p132 (0072.jp2)
  87. 11.1 神経膜モデルの沿革と背景 / p132 (0072.jp2)
  88. 11.2 油水界面に組み込んだ電気発振系と油層薄膜化への工夫 / p134 (0073.jp2)
  89. 11.3 多孔質メンブレンフィルターに含浸させた油膜系における電位振動の発現 / p137 (0074.jp2)
  90. 11.4 多孔質メンブレンフィルターに含浸させた液膜系における電流-電圧曲線 / p144 (0078.jp2)
  91. 11.5 多孔質メンブレンフィルター上に累積したLB膜系における自励発振 / p147 (0079.jp2)
  92. 11.6 多孔質メンブレンフィルターに累積したLB膜系の電流-電圧曲線 / p150 (0081.jp2)
  93. 11.7 興奮現象と分子配列 / p152 (0082.jp2)
  94. 第12章 終章 / p159 (0085.jp2)
  95. 引用文献 / p160 (0086.jp2)
  96. 謝辞 / p166 (0089.jp2)
2アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000077195
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000998558
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000241509
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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