エレクトロクロミック酸化イリジウム膜の新しい形成法とその応用に関する研究

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著者

    • 佐藤, 義幸 サトウ, ヨシユキ

書誌事項

タイトル

エレクトロクロミック酸化イリジウム膜の新しい形成法とその応用に関する研究

著者名

佐藤, 義幸

著者別名

サトウ, ヨシユキ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第2077号

学位授与年月日

1990-06-30

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. 目次 / (0004.jp2)
  3. 第1章 序論 / p1 (0006.jp2)
  4. 1.1 本研究の背景と意義 / p1 (0006.jp2)
  5. 1.2 E C材料およびE C Dの概要 / p3 (0007.jp2)
  6. 1.3 本研究の経過 / p9 (0010.jp2)
  7. 1.4 本論文の構成および概要 / p10 (0011.jp2)
  8. 1.5 参考文献 / p11 (0011.jp2)
  9. 第2章 実験方法 / p15 (0013.jp2)
  10. 2.1 まえがき / p15 (0013.jp2)
  11. 2.2 薄膜作製法 / p15 (0013.jp2)
  12. 2.3 薄膜固体ECD作製法 / p20 (0016.jp2)
  13. 2.4 酸化イリジウム膜の作製法 / p23 (0017.jp2)
  14. 2.5 薄膜の評価方法 / p26 (0019.jp2)
  15. 2.6 参考文献 / p33 (0022.jp2)
  16. 第3章 a-WO₃/Cr₂O₃薄膜固体ECDの特性改善 / p35 (0023.jp2)
  17. 3.1 まえがき / p35 (0023.jp2)
  18. 3.2 a-WO₃のECに関する従来の研究 / p35 (0023.jp2)
  19. 3.3 実験結果および考察 / p40 (0026.jp2)
  20. 3.4 まとめ / p57 (0034.jp2)
  21. 3.5 参考文献 / p60 (0036.jp2)
  22. 第4章 酸化イリジウム(IrOx)膜の作製法の開発 / p63 (0037.jp2)
  23. 4.1 まえがき / p63 (0037.jp2)
  24. 4.2 IrOxのECに関する従来の研究 / p64 (0038.jp2)
  25. 4.3 プラズマ酸化法による[化学式]膜の作製 / p69 (0040.jp2)
  26. 4.4 加熱酸化法による[化学式]膜の作製 / p85 (0048.jp2)
  27. 4.5まとめ / p88 (0050.jp2)
  28. 4.6 参考文献 / p92 (0052.jp2)
  29. 第5章 加熱酸化法で得た酸化イリジウム膜(TOIROF)のEC特性評価 / p97 (0054.jp2)
  30. 5.1 まえがき / p97 (0054.jp2)
  31. 5.2 TOIROFのEC特性 I.初期特性 / p97 (0054.jp2)
  32. 5.3 TOIROFのEC特性 II.電気化学的処理による特性改善 / p105 (0058.jp2)
  33. 5.4 T0IROFのキャラクタリゼーション / p110 (0061.jp2)
  34. 5.5 まとめ / p121 (0066.jp2)
  35. 5.6参考文献 / p125 (0068.jp2)
  36. 第6章 加熱酸化法で得た酸化イリジウム膜(TOIROF)の透過型ECDへの応用 / p129 (0070.jp2)
  37. 6.1 まえがき / p129 (0070.jp2)
  38. 6.2 透過型ECDに関する従来の研究 / p129 (0070.jp2)
  39. 6.3 非水溶媒電解液中における[化学式]のECに関する従来の研究 / p133 (0072.jp2)
  40. 6.4 実験結果および考察 / p134 (0073.jp2)
  41. 6.5 まとめ / p147 (0079.jp2)
  42. 6.6 参考文献 / p147 (0079.jp2)
  43. 第7章 加熱酸化法で得た酸化イリジウム膜(TOIROF)の光記録材料への応用 / p151 (0081.jp2)
  44. 7.1 まえがき / p151 (0081.jp2)
  45. 7.2 実験方法 / p151 (0081.jp2)
  46. 7.3 実験結果および考察 / p152 (0082.jp2)
  47. 7.4 まとめ / p162 (0087.jp2)
  48. 7.5 参考文献 / p164 (0088.jp2)
  49. 第8章 総括 / p167 (0089.jp2)
  50. 謝辞 / p170 (0091.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000078064
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000078268
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000242378
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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