食塩電解用低過電圧陰極の開発に関する研究
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Bibliographic Information
- Title
-
食塩電解用低過電圧陰極の開発に関する研究
- Author
-
遠藤, 榮治
- Author(Another name)
-
エンドウ, エイジ
- University
-
東北大学
- Types of degree
-
工学博士
- Grant ID
-
乙第5550号
- Degree year
-
1991-05-08
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 目次 / (0003.jp2)
- 第1章 緒論 / p1 (0006.jp2)
- 1･1 緒言 / p1 (0006.jp2)
- 1･2 アスベスト隔膜法食塩電解プロセスの原理と特徴 / p1 (0006.jp2)
- 1･3 イオン交換膜法食塩電解プロセスの原理と特徴 / p2 (0007.jp2)
- 1･4 隔膜法およびイオン交換膜法電解プロセスのエネルギー解析 / p4 (0008.jp2)
- 1･5 低過電圧陰極に関する従来の研究と検討すべき課題 / p8 (0010.jp2)
- 1･6 本研究の目的と論文の構成 / p8 (0010.jp2)
- 参考文献 / p12 (0012.jp2)
- 第2章 低過電圧陰極用高活性電極触媒の探索 / p13 (0013.jp2)
- 2･1 緒言 / p13 (0013.jp2)
- 2･2 水素電極反応の平衡論および速度論的検討 / p13 (0013.jp2)
- 2･3 種々の元素の電極触媒活性の検討 / p16 (0015.jp2)
- 2･4 実用電極触媒材料の使用環境での熱力学的安定性 / p18 (0016.jp2)
- 2･5 Ni系高活性電極触媒の探索 / p20 (0017.jp2)
- 2･6 結論 / p34 (0024.jp2)
- 参考文献 / p35 (0024.jp2)
- 第3章 低過電圧陰極の基礎的製造方法の確立 / p36 (0026.jp2)
- 3･1 緒言 / p36 (0026.jp2)
- 3･2 分散メッキ法の検討 / p37 (0027.jp2)
- 3･3 製造技術の確立 / p41 (0029.jp2)
- 3･4 R-Ni合金粒子の共析機構の考察 / p48 (0032.jp2)
- 3･5 結論 / p51 (0034.jp2)
- 参考文献 / p52 (0034.jp2)
- 第4章 R-Ni分散メッキ電極のキャラクタリゼーション / p53 (0036.jp2)
- 4･1 緒言 / p53 (0036.jp2)
- 4･2 実験方法 / p53 (0036.jp2)
- 4･3 電極形状 / p53 (0036.jp2)
- 4･4 電極表面の組成分析 / p53 (0036.jp2)
- 4･5 電極の比表面積 / p55 (0037.jp2)
- 4･6 電極のインピーダンス特性 / p56 (0038.jp2)
- 4･7 R-Ni分散メッキ電極上の水素電極反応 / p58 (0039.jp2)
- 4･8 結論 / p60 (0040.jp2)
- 参考文献 / p61 (0040.jp2)
- 第5章 隔膜法食塩電解プロセスへの適用 / p62 (0042.jp2)
- 5･1 緒言 / p62 (0042.jp2)
- 5･2 隔膜法陰極液中での電解性能 / p62 (0042.jp2)
- 5･3 隔膜法商業電解槽への適用 / p68 (0045.jp2)
- 5･4 結論 / p84 (0053.jp2)
- 参考文献 / p85 (0054.jp2)
- 第6章 イオン交換膜法食塩電解プロセスへの適用 / p86 (0055.jp2)
- 6･1 緒言 / p86 (0055.jp2)
- 6･2 電極触媒に及ぼす陰極液中不純物の影響 / p86 (0055.jp2)
- 6･3 電極触媒に及ぼす短絡操作の影響 / p92 (0058.jp2)
- 6･4 短絡停止時の陰極劣化の克服 / p96 (0060.jp2)
- 6･5 商業“AZEC”槽による実証 / p106 (0065.jp2)
- 6･6 結論 / p112 (0068.jp2)
- 参考文献 / p113 (0069.jp2)
- 第7章 総括 / p114 (0070.jp2)
- 謝辞 / p117 (0072.jp2)