化学プラントにおけるプロセス制御の実用化に関する研究

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著者

    • 花熊, 克友 ハナクマ, ヨシトモ

書誌事項

タイトル

化学プラントにおけるプロセス制御の実用化に関する研究

著者名

花熊, 克友

著者別名

ハナクマ, ヨシトモ

学位授与大学

神戸大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第1455号

学位授与年月日

1990-09-28

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 本研究の背景 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 化学プロセス制御の実用化に関する既往の研究 / p6 (0008.jp2)
  5. 1.3 本研究の目的と内容 / p11 (0010.jp2)
  6. 第2章 時系列モデリング / p19 (0014.jp2)
  7. 2.1 概要 / p19 (0014.jp2)
  8. 2.2 モデリング支援システム / p23 (0016.jp2)
  9. 2.3 適用結果と評価 / p29 (0019.jp2)
  10. 2.4 まとめ / p40 (0025.jp2)
  11. 第3章 モデル予測制御 / p43 (0026.jp2)
  12. 3.1 概要 / p43 (0026.jp2)
  13. 3.2 モデル予測制御の基本的概念 / p43 (0026.jp2)
  14. 3.3 プロセスの概要と制御目的 / p45 (0027.jp2)
  15. 3.4 システム構成 / p47 (0028.jp2)
  16. 3.5 適用結果と評価 / p52 (0031.jp2)
  17. 3.6 まとめ / p55 (0032.jp2)
  18. 第4章 繰り返し学習制御 / p57 (0033.jp2)
  19. 4.1 概要 / p57 (0033.jp2)
  20. 4.2 繰り返し学習制御の基本的な考え方 / p57 (0033.jp2)
  21. 4.3 実用化のための制御系設計 / p59 (0034.jp2)
  22. 4.4 バッチ重合反応器への適用 / p63 (0036.jp2)
  23. 4.5 光メモリディスク製造用射出成形機への適用 / p68 (0039.jp2)
  24. 4.6 まとめ / p77 (0043.jp2)
  25. 第5章 ファジイ制御 / p79 (0044.jp2)
  26. 5.1 概要 / p79 (0044.jp2)
  27. 5.2 自己調整付ファジイ制御系の設計 / p80 (0045.jp2)
  28. 5.3 エチレン製造装置の脱メタン塔への適用 / p89 (0049.jp2)
  29. 5.4 まとめ / p93 (0051.jp2)
  30. 第6章 オートチューニングコントローラ / p95 (0052.jp2)
  31. 6.1 概要 / p95 (0052.jp2)
  32. 6.2 閉ループ形オートチューニングコントローラの概要 / p95 (0052.jp2)
  33. 6.3 エチレン製造装置の脱ブタン塔への適用 / p102 (0056.jp2)
  34. 6.4 まとめ / p106 (0058.jp2)
  35. 第7章 プロセス異常診断 / p108 (0059.jp2)
  36. 7.1 概要 / p108 (0059.jp2)
  37. 7.2 実用性を考慮したプロセス異常診断システムの開発 / p110 (0060.jp2)
  38. 7.3 まとめ / p131 (0070.jp2)
  39. 第8章 総括 / p133 (0071.jp2)
  40. 謝辞 / p135 (0072.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000079317
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000079521
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000243631
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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