化学気相成長法によるシリコンならびにシリコンカーバイド結晶成長に関する研究

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著者

    • 大下, 祥雄 オオシタ, ヨシオ

書誌事項

タイトル

化学気相成長法によるシリコンならびにシリコンカーバイド結晶成長に関する研究

著者名

大下, 祥雄

著者別名

オオシタ, ヨシオ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第3984号

学位授与年月日

1991-06-06

注記・抄録

博士論文

名古屋大学博士学位論文 学位の種類:工学博士 (論文) 学位授与年月日:平成3年6月6日

目次

  1. 目次 / (0004.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0006.jp2)
  3. 1.1 まえがき / p1 (0006.jp2)
  4. 1.2 本研究の背景 / p2 (0007.jp2)
  5. 1.3 低温選択成長に関する従来の研究 / p5 (0008.jp2)
  6. 1.4 本研究の目的 / p8 (0010.jp2)
  7. 1.5 本論文の概要 / p9 (0010.jp2)
  8. 第1章の参考文献 / p11 (0011.jp2)
  9. 第2章 Siエピタキシャル成長に於ける吸着過程 / p13 (0012.jp2)
  10. 2.1 まえがき / p13 (0012.jp2)
  11. 2.2 Siエピタキシャル成長機構の概略 / p15 (0013.jp2)
  12. 2.3 非経験的分子軌道法 / p18 (0015.jp2)
  13. 2.4 吸着過程に関するモデル / p21 (0016.jp2)
  14. 2.5 表面の電子状態 / p23 (0017.jp2)
  15. 2.6 吸着過程 / p28 (0020.jp2)
  16. 2.7 まとめ / p37 (0024.jp2)
  17. 第2章の参考文献 / p38 (0025.jp2)
  18. 第3章 Siエピタキシャル成長に於ける表面反応過程 / p41 (0026.jp2)
  19. 3.1 まえがき / p41 (0026.jp2)
  20. 3.2 表面反応に関するモデル / p43 (0027.jp2)
  21. 3.3 表面反応機構 / p46 (0029.jp2)
  22. 3.4 計算方法 / p53 (0032.jp2)
  23. 3.5 表面反応経路に間する検討 / p56 (0034.jp2)
  24. 3.6まとめ / p67 (0039.jp2)
  25. 第3章の参考文献 / p68 (0040.jp2)
  26. 第4章 SiC低温成長におけるHCl添加効果 / p70 (0041.jp2)
  27. 4.1 まえがき / p70 (0041.jp2)
  28. 4.2 低温成長の問題点 / p72 (0042.jp2)
  29. 4.3 HCl添加効果 / p77 (0044.jp2)
  30. 4.4 選択成長 / p85 (0048.jp2)
  31. 4.5 ダイオード特性 / p88 (0050.jp2)
  32. 4.6まとめ / p91 (0051.jp2)
  33. 第4章の参考文献 / p92 (0052.jp2)
  34. 第5章 SiC低温選択成長 / p93 (0052.jp2)
  35. 5.1 まえがき / p93 (0052.jp2)
  36. 5.2 低温成長の問題点 / p95 (0053.jp2)
  37. 5.3 律速段階に関する検討 / p99 (0055.jp2)
  38. 5.4 CH₂の吸着過程 / p103 (0057.jp2)
  39. 5.5 i-C₄H₁₀を用いた成長 / p110 (0061.jp2)
  40. 5.6 選択成長 / p117 (0064.jp2)
  41. 5.7まとめ / p121 (0066.jp2)
  42. 第5章の参考文献 / p122 (0067.jp2)
  43. 第6章 結論 / p123 (0067.jp2)
  44. 6.1 本研究の要約 / p123 (0067.jp2)
  45. 6.2 今後の課題 / p127 (0069.jp2)
  46. 第6章の参考文献 / p129 (0070.jp2)
  47. 謝辞 / p130 (0071.jp2)
  48. 本研究に関する論文リスト / p131 (0071.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000079924
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000080129
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000244238
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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