Studies on quantitative analysis of impurities in compound semiconductors by secondary ion mass spectrometry 二次イオン質量分析法による化合物半導体中不純物の定量分析に関する研究

この論文をさがす

著者

    • 田中, 融 タナカ, トオル

書誌事項

タイトル

Studies on quantitative analysis of impurities in compound semiconductors by secondary ion mass spectrometry

タイトル別名

二次イオン質量分析法による化合物半導体中不純物の定量分析に関する研究

著者名

田中, 融

著者別名

タナカ, トオル

学位授与大学

大阪大学

取得学位

理学博士

学位授与番号

乙第5514号

学位授与年月日

1991-10-05

注記・抄録

博士論文

09913

博士(理学)

1991-10-05

大阪大学

14401乙第05514号

目次

  1. Contents / p1 (0002.jp2)
  2. Chapter1.General Introduction / p1 (0004.jp2)
  3. 1.1 Background / p1 (0004.jp2)
  4. 1.2 Problems in quantitative analysis / p3 (0005.jp2)
  5. 1.3 Purposes and scope of this article / p5 (0006.jp2)
  6. 1.4 References / p7 (0007.jp2)
  7. Chapter2.Theory / p9 (0008.jp2)
  8. 2.1 Local thermal equilibrium(LTE)model / p9 (0008.jp2)
  9. 2.2 General analytical method / p16 (0012.jp2)
  10. 2.3 References / p20 (0014.jp2)
  11. Chapter3.Direct Analysis of Impurities by Secondary Ion Mass Spectrometry Utilizing Matrix Effects / p21 (0014.jp2)
  12. 3.1 Ion Yields of Impurities in Compound Semiconductors for Secondary Ion Mass Spectrometry / p21 (0014.jp2)
  13. 3.2 Oxygen Effect on Secondary Ion Emission of Impurities / p60 (0034.jp2)
  14. Chapter4.Quantitative Secondary Ion Mass Spectrometric Analysis of Impurities by Removing Matrices / p91 (0049.jp2)
  15. 4.1 Introduction / p91 (0049.jp2)
  16. 4.2 Experimental / p94 (0051.jp2)
  17. 4.3 Results and discussion / p99 (0053.jp2)
  18. 4.4 References / p129 (0068.jp2)
  19. Chapter5.Conclusions / p130 (0069.jp2)
  20. Acknowledgement / p134 (0071.jp2)
  21. Papers relevant to the present study / p135 (0071.jp2)
0アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000081118
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000081326
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000245432
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ