フィールドアクセス方式による垂直ブロッホラインの転送に関する研究

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著者

    • 浅田, 裕法 アサダ, ヒロノリ

書誌事項

タイトル

フィールドアクセス方式による垂直ブロッホラインの転送に関する研究

著者名

浅田, 裕法

著者別名

アサダ, ヒロノリ

学位授与大学

九州大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第2862号

学位授与年月日

1991-10-29

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1-1 はじめに / p1 (0005.jp2)
  4. 1-2 ブロッホラインメモリの概要 / p5 (0009.jp2)
  5. 1-3 本研究の目的 / p13 (0017.jp2)
  6. 第2章 集中定数モデルによる垂直プロッホライン転送のシミュレーション / p17 (0021.jp2)
  7. 2-1 序言 / p17 (0021.jp2)
  8. 2-2 シミュレーションモデル / p18 (0022.jp2)
  9. 2-3 垂直ブロッホライン間の相互作用 / p24 (0028.jp2)
  10. 2-4 集中定数モデルによるハードウォール動特性のシミュレーション / p31 (0035.jp2)
  11. 2-5 磁界勾配駆動による垂直ブロッホライン対の転送 / p35 (0039.jp2)
  12. 2-6 結言 / p44 (0048.jp2)
  13. 第3章 垂直ブロッホラインのフィールドアクセス方式転送 / p46 (0050.jp2)
  14. 3-1 序言 / p46 (0050.jp2)
  15. 3-2 ビット周期の適正化 / p48 (0052.jp2)
  16. 3-3 ポテンシャルウェルの発生方法 / p54 (0058.jp2)
  17. 3-4 フィールドアクセス方式による垂直ブロッホラインの転送特性 / p62 (0066.jp2)
  18. 3-5 駆動磁界発生用磁気及び電子回路 / p75 (0079.jp2)
  19. 3-6 結言 / p78 (0082.jp2)
  20. 第4章 Cr膜ビットパターンにおける垂直ブロッホラインの転送特性 / p80 (0084.jp2)
  21. 4-1 序言 / p80 (0084.jp2)
  22. 4-2 ビット位置規定用ポテンシャルウェルの解析 / p81 (0085.jp2)
  23. 4-3 Cr膜ビットパターンにおける垂直ブロッホライン対の転送特性実験 / p90 (0094.jp2)
  24. 4-4 結言 / p98 (0102.jp2)
  25. 第5章 結論 / p100 (0104.jp2)
  26. 謝辞 / p103 (0107.jp2)
  27. 付録A 磁壁及び垂直ブロッホラインの動特性 / p104 (0108.jp2)
  28. A-1 磁化及び磁壁の運動方程式 / p104 (0108.jp2)
  29. A-2 垂直ブロッホラインを有する磁壁の移動速度 / p107 (0111.jp2)
  30. 参考文献 / p111 (0115.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000081406
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000081614
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000245720
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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